个人简历范文-工艺工程师
薄膜工艺工程师的个人简历范文,仅供写作时参考。
个人简历
姓 名:xxx | 性 别:男 | (可以贴照片)
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出生日期:1982年3月1日 | 学 历:大专 | |
毕业院校:兰州大学 | 专 业:半导体器件与微电子 | |
工作经验:三年以上 | 职 称:助理工程师 | |
申请职位:薄膜工艺工程师 研发工程师 | ||
联系方式:
15900000000 (手机)
www.geren-jianli.org(邮件 & MSN) |
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求职意向: 薄膜工艺工程师 研发工程师
求职地点: 无锡 南京 苏州
工作经验:三年以上
工资要求:3500以上
工作性质:全职
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2000.9--2004.7兰州大学 半导体器件与微电子学 本科
2000年9月至2004年7月 就读于兰州大学物理与科学技术学院微电子学专业
2006.5--2006.7 培训单位: 天合半导体公司 培训内容:iso9001认证
200.4—2005--6 培训单位:核芯电子公司 培训内容:5s现场管理
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2004年07月— 2007年03月 : 天水天光半导体公司(原国营八七一厂)
【单位性质】:合资
【所任职位】: 工程部/工艺工程师
【职责描述】:2004年07月--2007年4月担任天水天光半导体有限公司(国营八七一厂)工艺工程师兼新产品工艺设计工程师.主要负责varian3180、3120溅射台,mark50蒸发台,varian3125蒸发台,ebx2000蒸发台等的.工艺改进及保障工作和新产品的开发和工艺、版图设计,并熟练掌握肖特基生产线薄膜制备工艺。2006年4月-6月改进了varian3180溅射台溅射工艺,使该企业肖特基产品成品率提高了9.6个百分点,目前该设备已生产肖特基产品40000多片,并保持稳定运行。2006年8月-10月改进了肖特基产品合金工艺,提高了芯片均匀性。
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2005.11—2006.3:开发低速(50-100 ns)和高速(小于10 ns)开关二极管
项目描述:开发了低速(50-100 ns)和高速(小于10 ns)开关二极管,经日本专家鉴定,比日本tikoen公司相同产品正向电压还要低0.3v,目前已为天水天光半导体公司获利100多万元。
200.5--2005.10:开发大电流高电压肖特基二极管
项目描述:开发了大电流、高电压肖特基5a150v、200v,10a150v、200v产品,填补了该企业在大电流产品方面的空白。
责任描述:负责项目请示,提交项目建议书,项目可行性分析和项目前期调研,撰写项目可行性报告和调研报告;制定项目实施方案,填写项目申报书并负责项目申报工作。负责与企业客户的沟通,了解并分析客户需求,制定项目合作方案;并根据项目需求,组建项目团队和项目技术主要负责人.并负责与日本专家的技术交流与沟通.
2005.10—2006.5:开发了稳压二极管、光敏晶体管、led等产品
项目描述:参与开发了稳压二极管、光敏晶体管、led等产品,扭转了该企业产品单一化的局面。
责任描述:负责上述产品的金属薄膜制备,产品测试及工艺设计.
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熟练掌握varian3180、3120溅射台,mark50蒸发台,varian3125蒸发台,ebx2000蒸发台等的设备运行状态和工艺参数,并熟练掌握肖特基生产线扩散、光刻腐蚀、金属化等工艺。
熟悉新产品开发流程及工艺设计。
专业软件: l-edit
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乐观向上、兴趣广泛、稳重沉着、适应力强、勤奋好学、脚踏实地、认真负责、坚忍不拔、勇于迎接新挑战、具有较强的团队合作精神。 |
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